基于数字微镜器件亚微米制备技术研究

作者：陆锦洪; 谢向生; 张培晴; 周建英

来源：光子学报, 2010, (04): 600-604.

• 干涉光刻
• 傅里叶光学
• 微纳光子器件
• 阿贝成像原理
• 数字微镜器件 Interference lithography
• Fourier optics
• Micro-nanophotonic device
• Principle of Abbe′s imaging
• Digital Micromirror Device(DMD)

为了实时、便捷的改变光刻图案以用于微纳光子器件制备,使用数字微镜器件构建了一套无掩模亚微米尺度制备系统.基于阿贝成像原理分析了周期结构在相干光照明下的成像过程,并用数值模拟以及空间滤波实验证明了这个过程.使用此实验系统制作出了周期为900nm的二维结构以及周期为数十微米的带缺陷结构.实验表明,使用数字微镜器件可以方便的制作出亚微米尺度的图案.

• 单位
  光电材料与技术国家重点实验室; 中山大学