<正>(接2016年第5期第82页)普通磁控溅射靶的磁场集中在靶面附近(见图64a),靶的磁场将等离子体紧密地约束在靶面附近,而基片附近的等离子体很弱,基片不会受到离子和电子较强的轰击。而非平衡磁控溅射阴极的磁场大量向靶外发散(见图64b),非平衡磁控溅射阴极的磁场可将等离子体扩展到远离靶面处,使基片浸没其中。通过改变磁控靶中磁体的配置方式,有意识地增强或削弱其中一个磁极
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