非综合征型唇腭裂患儿血清抗-HCV化学发光法出现假阳性的原因分析

作者：王菊英; 李锋; 周立荣; 唐秀英; 李莉

来源：中国免疫学杂志, 2015, 31(06): 795-802.

• 非综合征型唇腭裂
• 化学发光法
• 弱反应性
• 假阳性
• 追踪监测

目的:探讨非综合征型唇腭裂患儿血清丙型肝炎病毒抗体(抗-HCV)化学发光法(CLIA)出现假阳性的原因。方法:选取4 050例非综合征型唇腭裂患儿作为病例组,以同期的8 547例手术患儿为对照组,先采用CLIA检测抗-HCV;有反应性样本采用免疫印迹法(RIBA)及荧光定量PCR(FQ-PCR)确证;病例组有反应性病例又采用CLIA进行抗-HCV追踪监测至转阴;分析比较其转阴前后血清免疫球蛋白G(Ig G)、类风湿因子(RF)及自身抗体(ANA)等检测结果的差异。结果:病例组抗-HCV有反应性样本的检出率及假阳性率均高于对照组,对比差异有统计学意义(P<0.05);病例组检出的42例抗-HCV弱反应性样本均为假阳性,经1个月19个月追踪监测均转为阴性,转阴前后血清Ig G、RF、ANA等检测结果,对比差异无统计学意义(P>0.05)。结论:非综合征型唇腭裂病例抗-HCV CLIA法出现假阳性的原因可能与其血浆代谢异常产物有关,可通过追踪监测加以排除。

• 单位
  宁夏医科大学总医院