马赫-曾德尔干涉仪对抑制延时特征的作用机理研究

作者：吴天安; 张晓旭; 张胜海; 兰淑静

来源：中国激光, 2018, 45(05): 18-27.

• 激光光学
• 混沌
• 半导体激光器
• 马赫-曾德尔干涉仪
• 延时特征峰

双光反馈和双光注入作为抑制光反馈混沌激光器延时特征峰的两种重要方案,本质上都是通过马赫-曾德尔干涉仪对延时特征峰进行抑制。总结了两种方案中干涉仪对延时特征峰的抑制规律,系统分析了干涉仪在抑制延时特性中的作用与机理。当干涉仪的两臂接近相等时,两路混沌激光的电场强度和相位具有较强的相关性,光的叠加以相干叠加为主,混沌激光的延时特征峰随τd(由于干涉仪两臂存在光程差产生的时间延迟)呈周期性变化;当干涉仪的两臂臂长相差较大且不成比例时,两路混沌激光的电场强度和相位的相关性降低甚至消失,光的叠加为非相干叠加,但是对延时特征峰的抑制仍由干涉项决定,主延时特征峰不随τd变化,同时产生新的延时特征峰。

• 单位
  中国人民解放军信息工程大学