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摘要
超光滑的表面对高性能光学系统的性能至关重要，为了可以实现离子束抛光对元件表面超光滑的制造，离子束抛光（ion beam figuring,IBF）引起的元件表面形貌光滑化和粗糙化在很大程度上取决于加工条件。通常不正确的离子束抛光方法会导致光学表面的粗糙度增加，选择合适的加工方法可以减小表面的粗糙度，实现表面的超光滑。结果表明：基于高精度的离子束抛光技术，为了改善熔石英表面粗糙度，采用了0°～45°之间不同入射角度的离子束倾斜抛光进行研究，小角度（0°～30°）倾斜入射抛光可以较好地改善表面粗糙度，实现了离子束倾斜超光滑表面的生成，而在大入射角时观察到纳米级波纹图案，粗糙度值显著增大，不利于生成超光滑的表面。
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