磁控溅射镀膜技术的研究及发展趋势撤回

作者:赵向杰
来源:合成材料老化与应用, 2020, 49(02): 120-122.
DOI:10.16584/j.cnki.issn1671-5381.2020.02.034

摘要

综述了磁控溅射镀膜技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的发展,利用新型的磁控溅射镀膜技术可以实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备以及提高反应溅射沉积薄膜的质量等,并进一步取代电镀等传统表面处理技术。并阐述磁控溅射镀膜技术在电子、光学、表面功能薄膜等许多方面的应用。