综述了磁控溅射镀膜技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的发展,利用新型的磁控溅射镀膜技术可以实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备以及提高反应溅射沉积薄膜的质量等,并进一步取代电镀等传统表面处理技术。并阐述磁控溅射镀膜技术在电子、光学、表面功能薄膜等许多方面的应用。