WO3-NiO电致变色薄膜的制备与性能

作者：李解; 曹镜宇; 张浩强

来源：阜阳师范学院学报(自然科学版), 2020, 37(01): 35-41.

DOI：10.14096/j.cnki.cn34-1069/n/1004-4329(2020)01-035-07

• 氧化镍
• 氧化钨
• 薄膜
• 化学浴沉积法
• 电致变色

以硫酸镍(NiSO4)和钨酸钠(Na2WO4·2H2O)为原料,采用低温化学浴沉积法在ITO导电玻璃上制备NiO和WO3电致变色薄膜,并通过物理方法制备WO3-NiO电致变色器件。本文探索了溶液的浓度和pH对薄膜沉积的影响。采用低温化学浴沉积法直接制备的薄膜为Ni(OH)2。实验结果表明当溶液浓度为0.02～0.5 M,pH在9.6～11.6之间,均可以得到致密、均匀的Ni(OH)2薄膜。其中,当硫酸镍浓度在0.05 M、pH调至11.3时能得到致密均匀且透过率高的氢氧化镍薄膜。该薄膜退火后可转化为NiO。当Na2WO4·2H2O溶液浓度在0.02 M至0.06 M,pH为1.2时,能得到致密均匀的WO3薄膜。此外,钨酸钠浓度在0.06 M且pH调至1.2时,得到致密均匀透过率高的WO3薄膜。将NiO-WO3薄膜组装成器件后光学调制为28%左右,能得到所需的电致变色器件。

• 单位
  安徽建筑大学