针对InAs/GaSb Ⅱ类超晶格红外探测器开发高质量背减薄工艺，获得了高质量衬底表面，改善了超晶格红外探测器组件的成像品质。采用机械抛光和机械化学抛光相结合的工艺减薄衬底，其中机械抛光削减衬底大部分厚度，然后通过机械化学抛光去除机械损伤。机械化学抛光过程中，在压力、转速等不变的情况下，主要研究机械化学抛光液的pH值对衬底表面质量的影响。实验结果表明，当机械化学抛光液的pH值为9.4时，获得了高质量、低损伤的芯片衬底表面，并实现了最佳的探测器组件成像效果。
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
