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摘要
采用双层辉光等离子表面冶金技术，以粉末冶金W18Ta18V20Nb18Mo26合金作为源极靶材，控制工件极温度为1200℃,源极和阴极电压差分别为300、400和500 V,在纯钨表面制备了WTaVNbMo难熔高熵合金层。用扫描电镜及其所附能谱仪和X射线衍射仪检测合金层的显微组织和相组成，用显微硬度计和电化学工作站测试了合金层的硬度和耐蚀性，利用SRIM软件模拟分析了合金层的抗辐照性能。结果表明，在不同电压差条件下纯钨表面均形成了BCC结构的WTaVNbMo高熵合金层。电压差为400 V时，制备的合金层厚度达到100μm以上；500 V电压差下制备的合金层表面均匀，组织致密，硬度最高，可以达到1635 HV0.05,耐蚀性良好，自腐蚀电流密度较W基体降低了近两个数量级。辐照模拟结果表明，相比于纯钨，高熵合金层的损伤范围较为集中，投影射程更短，电子阻止本领更大，电离损失速度加快。
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