磁控溅射沉积薄膜预溅射时间的光谱诊断

作者：郭庆林; 范青; 崔永亮; 董开虎; 张磊; 李旭; 张金平; 陈金忠

来源：光谱学与光谱分析, 2013, (03): 595-599.

• 等离子体发射光谱
• 光谱分析
• 磁控溅射
• 预溅射时间 Plasma emission spectra
• Spectral analysis
• Magnetron sputtering
• Time of pre-sputtering

利用Omni-λ300系列光栅光谱仪、CCD数据采集和处理系统以及光纤导光系统等构成的等离子体光谱分析系统,实现了实时获取射频磁控溅射过程中等离子体光谱,分别对NiTa,TiAl陶瓷靶,NiAl,TiAl合金靶四种靶材的磁控溅射过程产生的等离子体进行监测,以TaⅡ333.991nm,NiⅠ362.473nm,AlⅠ396.153nm和TiⅠ398.176nm为分析线,获得了分析谱线强度随时间的变化规律,并以此为依据确定了预溅射时间,同时研究了不同溅射功率和压强对预溅射时间的影响。

• 单位
  河北大学