原位法合成螺吡喃功能化的UiO-66光响应吸附剂及其性能研究

作者：朱竞; 钟顺; 雷昊; 周丹; 吴欣雨; 刘永龙; 戴勇^*

来源：山东化工, 2023, 52(06): 19-26.

DOI：10.19319/j.cnki.issn.1008-021x.2023.06.015

• 吸附
• 脱附
• 光响应
• 螺吡喃
• UiO-66

传统吸附剂孔道结构和表面性质固定，往往难以兼顾高效吸附和脱附。采用原位合成法，制备螺吡喃功能化的金属有机骨架UiO-66,在其孔结构中构筑可光控调节的光响应吸附活性位。以阴离子染料甲基橙为吸附质模型，考查材料对吸附质的吸附及脱附性能。经紫外光照射后，样品OP-US对甲基橙的平衡吸附量从33.84 mg·g-1上升至42.41 mg·g-1,提升了25.32%;经可见光照后，甲基橙的脱附量比紫外光照时提升了51%。通过光照刺激改变UiO-66孔笼中螺吡喃分子的构型及表面电荷性质，即对吸附活性位进行光控调节，在不同光照条件下实现对吸附质的高效吸附和有效脱附，为新型高效吸附剂的制备和金属有机骨架材料的应用提供思路。

• 单位
  盐城工学院; 化学化工学院