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摘要
针对电子级多晶硅还原炉底盘附着的残留物，研究超快激光技术在电子级多晶硅还原炉的应用。通过超快激光电子级多晶硅还原炉清洗设备结构，分析其清洗电子级多晶硅还原炉设备过程。选取试验材料、试剂和设备后，分别制备含有无定形硅粉、氯硅烷水解物、二氧化硅粉尘、甲基硅油油脂、多晶硅颗粒等污染物的基板作为还原炉污染样本；并以制备的还原炉污染样本为基础，设定初始条件和边界条件后，展开电子级多晶硅还原炉污染试件清洗试验。结果表明：污染物基本被去除；在不同清洗次数下，超快激光清洗时的重复频率和扫描速度越高，其清洗电子级多晶硅还原炉污染试件效果越好。
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单位青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司
