摘要
采用基于密度泛函理论(Density Functional Theory, DFT)的第一性原理计算,研究了堆垛方式、层数及外加电场对C3N的带隙调控.考察了AA-1型、 AA-2型、 AB-1型和AB-2型这4种堆垛结构,计算表明, AB-2型堆垛结构能量最为有利.通过HSE06杂化泛函对带隙进行了精确计算,发现AA型堆垛与AB型堆垛的双层C3N存在较大的带隙差异, AA型堆垛结构的带隙要明显小于AB型堆垛结构.此外,还发现C3N的带隙可由单层的1.21 eV调控到体相的0.69 eV;通过施加外加垂直电场,可以将具有AB-2型堆垛结构的双层、三层和四层C3N半导体调控为趋于零带隙的金属.
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单位华东师范大学; 精密光谱科学与技术国家重点实验室