摘要
本文采用电化学噪声、扫描电子显微镜和掠入射X射线衍射等技术,研究了电沉积电流密度(D_(K))和镀液温度对Ni沉积层结构和E~(D)的影响规律,并详细探讨了沉积层结构与E~(D)之间的关系。结果表明:Ni镀层的初始成核/生长机制受制于D_(K),并对E~(D)产生显著的影响;E~(D)主要反映了电极表面状态的剧烈变化程度或局部阴极反应的反应速率(非整体的阴极反应速率)。Ni晶核在异质基底上的形成(新相的形成)/生长过程引起了电极表面状态的剧烈变化,其对E~(D)的影响远远高于Ni在同质基底上的成核/生长过程。
- 单位