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摘要
本实用新型公开了一种反应室均气装置,包括：设于反应室上方的法兰,该法兰设有上下两层隔开的气源腔室,所述的气源腔室内部设有使气源在水平方向均匀分布的引流槽,上下两层气源腔室的出口设有均流网,第一气源依次与上下层气源腔室连通,第二气源与下层气源腔室连通。本实用新型能较好地为反应室内提供均匀的气氛场,从而提高批量生产的合格率。
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本实用新型公开了一种反应室均气装置,包括：设于反应室上方的法兰,该法兰设有上下两层隔开的气源腔室,所述的气源腔室内部设有使气源在水平方向均匀分布的引流槽,上下两层气源腔室的出口设有均流网,第一气源依次与上下层气源腔室连通,第二气源与下层气源腔室连通。本实用新型能较好地为反应室内提供均匀的气氛场,从而提高批量生产的合格率。
