高反膜镀制工艺研究的新进展

作者：邓婷; 黄光周; 刘雄英; 朱建明; 戴晋福

来源：真空电子技术, 2009, (03): 30-36.

DOI：10.16540/j.cnki.cn11-2485/tn.2009.03.004

• 高反膜
• 反射率
• 制备工艺
• 损伤阈值 High reflectance coating
• The index of reflection
• Craft of manufacture
• Damage threshold value

叙述了近几年国内外的研究进展,包括高反膜几种不同的制备工艺,如电子束蒸发沉积、离子束辅助沉积、离子束溅射沉积和溶胶-凝胶沉积法等,分析了各种制备方法及工艺的特点;针对高反膜的抗激光损伤阈值低从而影响激光器输出功率的问题,讨论了提高损伤阈值的途径;最后归纳了各种制备工艺的优缺点,并探讨了进一步提高薄膜反射率的可能性。

• 单位
  华南理工大学; 肇庆市科润真空设备有限公司