AlN薄膜制备及光学性能研究

作者：席忠红; 李海翼

来源：低温物理学报, 2012, 34(06): 467-470.

• AlN薄膜
• 磁控溅射
• 光学性能
• 禁带宽度 AlN thin films
• Magnetron sputtering
• Optical property
• Band gap

采用直流磁控溅射的方法,分别在Si(111)和玻璃基片上沉积AlN薄膜.利用X射线衍射仪、X射线能谱仪、台阶仪、原子力显微镜、分光光度计和傅里叶变换红外光谱仪等分析薄膜的结构、组分、膜厚、形貌和光学性能.实验得到的样品为多晶六方相AlN,膜厚为720nm,含有少量的氧杂质.对AlN薄膜的光学性能的研究表明,样品在250～1000nm波长范围内具有较高的透过率;红外吸收谱以672cm-1为中心形成一个很宽的红外吸收带;薄膜的禁带宽度约为5.94eV.

• 单位
  甘肃民族师范学院