微热压印制备三棱锥结构减反射薄膜

作者:吴海锋; 许志龙*; 陈秀玉; 石平
来源:微纳电子技术, 2020, 57(09): 741-747.
DOI:10.13250/j.cnki.wndz.2020.09.010

摘要

通过拉伸实验机的改装,采用平面对平面的微热压印方法,探究在聚氯乙烯(PVC)薄膜表面压印获得三棱锥阵列结构减反射薄膜的可行性,并利用正交实验研究了工艺参数(压印温度、保压时间和压印压力)对三棱锥结构的高度和锥体侧面之间的二面夹角的影响。结果表明,通过改装拉伸实验机进行微热压可以获得充形完整的微三棱锥阵列结构,且压印温度是影响三棱锥结构成形的主导因素;采用压印温度170℃、保压时间300 s、压印压力2 kN的工艺参数能够获得复刻精度完整的三棱锥光阵列结构,获得的减反射薄膜可以将光面晶硅表面加权平均反射率从21.47%降低至12.97%。

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