一种铜钼合金膜的化学蚀刻用组合物

来源：中国钼业, 2020, 44(06): 45.

<正>专利申请号:CN201811116861公开号:CN109112545A申请日:2018.09.25公开日:2019.01.01申请人:惠州市宙邦化工有限公司本发明公开了一种铜钼合金膜的化学蚀刻用组合物,以蚀刻用组合物的总重量为100%计,包含下述组分:过氧化氢5%～15%,有机酸0.5%～5%,过氧化氢稳定剂0.1%～5%,金属螯合剂2.0%～7.0%,蚀刻添加剂0.001%～0.5%,表面活性剂0.03%～0.1%,磷酸酯类物质0.005%～0.05,pH调节剂3.0%～7.0%,余量为去离子水。