SiO2真空烧结炉的温区均匀性分析

作者：薛钦; 刘颖; 张贤根; 赵海伦

来源：冶金管理, 2019, (17): 12.

• SiO2
• 真空烧结炉
• 温区均匀性
• ANSYS仿真分析

近年来,高纯二氧化硅的需求不断攀升,应用也从传统的光通信行业转向航空航天和检测领域,作为制备SiO2的重要工艺,真空烧结设备的温度均匀性将直接影响产品质量。本文通过对设备热场分析并建立数学模型,利用ANSYS仿真软件,优化炉体加热和保温结构,实现对真空烧结炉内温度均匀性的分析。