介电泳效应磨粒流抛光中的电极形态

作者：邓乾发; 郑涛; 袁巨龙^*; 王旭; 张学良; 吕冰海

来源：中国机械工程, 2020, 31(23): 2822-2828.

• 磨粒
• 介电泳效应
• 抛光
• 陶瓷
• 内表面

针对薄壁陶瓷工件内表面抛光,提出一种基于介电泳效应的磨粒流抛光方法。将非均匀电场布置于陶瓷工件外表面,极化磨粒,实现陶瓷工件内表面高效抛光。仿真分析发现:电极间隙比为2时,SiC磨粒具有最好的介电泳效应,参与抛光的磨粒最多。陶瓷工件初始内表面粗糙度值Ra为(208±5)nm时,抛光10 h后,无介电泳效应的磨粒流抛光工件内表面粗糙度值Ra为51 nm,有介电泳效应的磨粒流抛光工件内表面粗糙度值Ra为23 nm。

• 单位
  浙江工业大学; 杭州科技职业技术学院