摘要
电子级超纯水在半导体制造中用量很大,目前超纯水生产以“预处理+反渗透(RO)+电除盐(EDI)”为主单元的长流程工艺为主。在此基础上,提出了一种以中空纤维纳滤(HFNF)和平板真空多效膜蒸馏(VMD)替代EDI之前所有工艺段的短流程生产工艺,把超纯水生产工艺从原长流程的12个以上工艺段减少至6个以下。研究结果表明,以HFNF+VMD作预处理的产水电导率低于4μS/cm,完全满足EDI的进水要求;在出水水质不变的情况下,短流程生产工艺减少了工艺段,超纯水产水量提高了44.6%,进而可以降低设备投资,而且使维护变得简单且经济;更重要的是短流程生产工艺故障风险位点减少,超纯水工艺和水质更加稳定。