该文提出两种铁氧体-硅双层基片的微带线结构,并通过对麦克斯韦方程的坐标旋转和傅里叶变换导出波导纳,用谱域导抗法进行特性分析。尤其是对微带线的色散特性进行了计算,讨论了微带线各种参数对色散特性的影响,并对它们的特性进行了对比,发现其中一种结构的色散受各因素的影响很小,尤其是介质的工艺尺度,可用于更高集成电路的制造中。
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