脉冲参数对TC4钛合金电化学抛光的影响

作者：郑希鹏; 李俊飞^*; 蓝富林; 王猛猛; 林逸铭

来源：电镀与涂饰, 2023, 42(07): 55-62.

DOI：10.19289/j.1004-227x.2023.07.009

• 钛合金
• 电化学抛光
• 脉冲参数
• 表面粗糙度
• 材料去除率

采用脉冲电源对TC4钛合金进行电化学抛光，研究了电压、脉冲频率和占空比对抛光效果的影响。结果表明，TC4钛合金的表面粗糙度和材料去除率随着脉冲频率增大而呈先减小后增大的变化趋势；随着电压或占空比增大，TC4钛合金的表面粗糙度先减小后增大，材料去除率增大。在温度20℃、极间距4 cm、电压25 V、脉冲频率1 000 Hz及占空比40%的条件下电化学抛光6 min后，TC4钛合金的材料去除率为23.85μm/min，表面粗糙度(Ra)从初始的6.21μm降到0.84μm，表面平整均匀。

• 单位
  广东工业大学