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摘要
为研究铝氧化膜成膜工艺参数,验证氧化膜吸附放射性核素14C性能,通过建立一套20%硫酸体系阳极氧化装置,研究在电解液温度14～20℃、电压10～22 V、成膜时间20～150 min范围内各参数与氧化膜厚度的关系。结果表明,该方法研制生产的氧化膜厚度在4～60μm之间。通过实验验证,采用研制的4～12μm的氧化膜,厚度均匀性优于7%,对14C的吸附率大于75%。本研究结果可为非金属核素标准面源的研制提供一种新的方法。
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为研究铝氧化膜成膜工艺参数,验证氧化膜吸附放射性核素14C性能,通过建立一套20%硫酸体系阳极氧化装置,研究在电解液温度14～20℃、电压10～22 V、成膜时间20～150 min范围内各参数与氧化膜厚度的关系。结果表明,该方法研制生产的氧化膜厚度在4～60μm之间。通过实验验证,采用研制的4～12μm的氧化膜,厚度均匀性优于7%,对14C的吸附率大于75%。本研究结果可为非金属核素标准面源的研制提供一种新的方法。
