纳米压印λ/4相移分布反馈激光器的单模稳定性

作者：周宁; 李林松; 曹明德; 王定理; 王磊; 刘文; 李洵

来源：激光与光电子学进展, 2011, 48(01): 98-103.

DOI：10.3788/LOP48.011401

• 激光器
• 模式稳定性
• λ /4波长相移
• 纳米压印
• 分布反馈
• 光谱
• 边模抑制比
• 面反射 lasers
• mode stability
• quarter-wavelength phase shift
• nano-imprinting lithography
• distributed feedback
• optical spectrum
• side-mode-suppression-ratio
• facet reflection

利用沿谐振腔体的一维数值模型着重研究了采用纳米压印技术制作的λ/4相移光栅分布反馈半导体激光器(QPS-DFB-LD)的光谱特性对谐振腔体参数的依赖性。通过将理论计算的结果与实测光谱对照,抽取了用于理论计算的QPS-DFB-LD模型参数。计算结果表明,相移区对中心位置的偏离量较小时(不超过10%)不会对器件的光谱特性造成很大影响,而仅仅是带来微小的蓝移和边模抑制比(SMSR)的变化。而当相移区对中心位置的偏离实际存在时,距离相移区较近的一端光输出功率增大而另一端光输出功率减小,并且距离相移区较近的一端输出光谱SMSR略高。器件两端蒸镀减反膜后所残留的反射率仍会使激射模在一定范围内产生漂移,并使其SMSR产生一定程度上的劣化。

• 单位
  华中科技大学; 武汉光电国家实验室; 武汉光迅科技股份有限公司