管式PECVD法沉积的SiyNx/SiOxNy叠层膜的研究

作者：王贵梅^*; 许志卫; 靳迎松; 朱少杰; 王少丽

来源：太阳能, 2022, (01): 40-44.

DOI：10.19911/j.1003-0417.tyn20201010.01

• 管式PECVD
• 氮氧化硅薄膜
• 氮化硅薄膜
• SiyNx/SiOxNy叠层膜
• 太阳电池
• 短波响应
• 抗PID性能

本文对采用管式等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法沉积的氮化硅与氮氧化硅(SiyNx/SiOxNy)叠层膜进行了实验研究,结果表明:在硅片正面镀膜时增加SiOxNy膜层,既可以增强正面的钝化效果,还可以降低对光的反射率,增加光吸收率,从而提升太阳电池的短波响应能力,通过对膜层组分和反应气体流量等工艺参数进行匹配优化,使太阳电池的光电转换效率提升了0.07%;利用SiyNx/SiOxNy叠层膜抗氧化、抗钠离子的特性,使太阳电池的抗电势诱导衰减(PID)性能提升了22%。