本发明公开了一种基于SU-8光刻胶的纳米流体系统自支撑结构的制作方法,其特征是首先加工制作PDMS软模板,利用PDMS软模板制作SU-8纳米通道基底,同时利用紫外曝光显影制作包含样品池的SU-8键合层,并利用键合技术实现SU-8纳米通道基底与键合层的键合密封,最后去除PDMS及PET软基底,实现SU-8纳米流体系统自支撑结构。本发明方法操作简单,制造成本低,设备要求不高。制作结果显示了系统没有分层和堵塞,也看不出键合的界面,通道的轮廓清晰可见,展示了很好的质量。
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