低电压电沉积类金刚石碳膜的研究

作者:王历; 吴敏娴; 李珺; 陈艳丽; 王文昌; 陈智栋
来源:电化学(中英文), 2022, 28(06): 66-73.
DOI:10.13208/j.electrochem.210444

摘要

采用电化学沉积法,在较低电压下(4.0~8.0 V)以甲酸作为主要碳源,甲酸钠作为辅助碳源,二甲基亚砜与去离子水作为溶剂,在不锈钢表面制备了类金刚石碳薄膜,研究了沉积电压对碳膜形貌和成分的影响。电化学沉积含氢类金刚石碳薄膜致密、均匀,膜的电导率与沉积电压呈负相关关系,电导率介于金属与半导体之间。拉曼光谱在1332 cm-1处出现金刚石的特征峰,sp3碳成分随沉积电压的增加而增加。傅里叶红外变换光谱显示沉积的类金刚石碳膜为含氢碳膜。X射线光电子能谱分析显示这些薄膜中存在sp2和sp3键碳原子。

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