下一代光刻技术

作者：佟军民; 胡松; 余国彬

来源：电子工业专用设备, 2005, (11): 31-37.

• 下一代光刻技术
• 浸没式光刻技术
• 极端远紫外光刻技术
• 纳米压印光刻技术
• 无掩模光刻技术 The Next Generation Lithography
• Immersion Lithography
• Extreme Ultraviolet Lithography
• Nanoimprint Lithography
• Maskless Lithography

介绍了下一代光刻技术的演变,重点描述了浸没式光刻技术、极端远紫外光刻技术、纳米压印光刻技术和无掩模光刻技术的基本原理、技术优势、技术难点以及研发,并展望了这几种光刻技术的前景。

• 单位
  中国科学院光电技术研究所; 中国科学院研究生院