综述了MOCVD技术制备抗氧化铱涂层的基本原理和特点;MOCVD的制备工艺,如MO源、基体种类、沉积温度、沉积气氛等对铱涂层结构的影响;提出了铱涂层因热膨胀系数不匹配、存在杂质和微裂纹等氧化活性点失效的3种失效机制;并通过对比国内外MOCVD铱涂层的制备技术及性能特点,指出了国内MOCVD制备铱涂层的过程中存在的成本昂贵、沉积理论不完善、结合力差等关键问题及可能的解决方案。
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