近期光刻用ArF准分子激光技术发展

作者：游利兵; 周翊; 梁勖; 余吟山; 方晓东; 王宇

来源：量子电子学报, 2010, (05): 522-527.

• 激光技术
• ArF准分子激光
• 光刻
• 双图形 laser technology
• ArF excimer laser
• lithography
• double patterning

193 nm ArF准分子激光光刻技术已广泛应用于90 nm以下节点半导体量产。分析了近期发展用于改进准分子激光性能的关键技术:主振-功率再生放大(MOPRA)结构,主振-功率振荡(MOPO)结构,主动光谱带宽稳定技术,先进的气体管理技术。对光刻用准分子激光光源技术发展趋势进行了简要的讨论。

• 单位
  中国科学院，安徽光学精密机械研究所; 中国科学院安徽光学精密机械研究所; 中国科学院光电研究院