基于金刚石对顶砧的高压下原位阻抗谱测量

作者：杨洁; 王月; 高春晓

来源：原子与分子物理学报, 2009, (04): 729-732.

• 金刚石对顶砧
• 阻抗谱
• 原位测量 diamond anvil cell
• electrical impedance
• in-situ measurement

借助薄膜集成技术,阻抗谱测量方法被应用到金刚石对顶砧压机上.通过对电极构型的改进和组装方法的优化,实现了对ZnS样品高压下原住阻抗谱的测量,实验压力达到30 GPa.实验结果显示,平行板构型的电极能够获得完整的阻抗谱.ZnS在压力作用下发生的结构相变,引起了电输运性质的变化,而这个变化,能够清晰地在阻抗谱测量中反映出来.

• 单位
  吉林大学; 超硬材料国家重点实验室; 中国人民解放军空军航空大学