掺硼金刚石薄膜的电化学性能

作者：刘峰斌; 汪家道; 刘兵; 李学敏; 陈大融

来源：功能材料与器件学报, 2005, (03): 295-298.

• 掺硼金刚石薄膜电极
• 铂/金刚石电极
• 电化学性能
• 循环伏安法 boron-doped diamond thin-film electrode
• Pt/BDD electrode
• electrochemical properties
• cyclic voltammetry

利用循环伏安法,通过对比掺硼金刚石薄膜电极和铂/金刚石电极分别作为工作电极时的循环伏安曲线,分析了两种电极表现出的电化学性能差别,并利用能级理论进行了机理探讨。结果表明掺硼金刚石薄膜电极具有宽的电化学窗口(宽度约为3V)、良好的化学稳定性和极低的背景电流(接近0),是一种较有潜力的电化学电极材料。

• 单位
  摩擦学国家重点实验室