截面拋光仪 IB-19530CP

来源：电子显微学报, 2022, 41(05): 590.

<正>新型离子束样品制备装置,实现从截面刻蚀/平面刻蚀到离子溅射镀膜!!多用途样品台新型截面抛光仪IB-19530CP配备了多用途样品台,不仅能截面刻蚀还可以平面刻蚀、旋转截面刻蚀和镀碳。简单操作利用精密加工定位显微镜能更精确地调整加工位置。*自动加工程序包含自动加工开始模式,间歇加工模式,精抛模式。