非晶铟镓锌氧化物薄膜晶体管的制备及其光敏特性研究

作者：陆清茹; 李帆; 黄晓东

来源：半导体光电, 2019, 40(04): 480-483.

DOI：10.16818/j.issn1001-5868.2019.04.007

• 射频磁控溅射
• 非晶铟镓锌氧化物
• 薄膜晶体管
• 光敏特性

基于射频磁控溅射法制备了以非晶铟镓锌氧化物(a-IGZO)作为有源层的底栅顶接触式薄膜场效应晶体管(Thin Film Transistor,TFT),其长/宽比为300μm/100μm。研究了该器件在无激光和在三种不同波长激光照射下的光敏特性。实验表明,器件在波长分别为660、450和405nm三种激光照射下的阈值电压Vth分别为4.2、2.5和0V,均低于无激光时的4.3V,且器件的阈值电压随激光波长减小单调降低,此外,随着激光波长的下降,"明/暗"电流比K由0.54上升到8.06(在VGS=6V且VDS=5V条件下),光敏响应度R由0.33μA/mW上升到4.88μA/mW,可见激光波长越短,可获得更强的光电效应,光灵敏度也更高,该效应表明该器件在光电探测等领域具有广阔的应用前景。

• 单位
  东南大学; 东南大学成贤学院; 毫米波国家重点实验室