Pd/V_2O_5薄膜的氢气敏感性质研究

作者：余海湖; 史勇; 吴银伟; 黄金山

来源：武汉理工大学学报, 2010, (11): 6-8+13.

• Pd/V2O5薄膜
• 磁控溅射
• 氢敏性质
• 气致变色机理 Pd/V2O5 thin film
• magnetron sputtering
• hydrogen-sensing properties
• gasochromic mechanism

采用磁控溅射法制备了不同厚度的Pd/V2O5双层复合薄膜,采用紫外-可见光分光光度计研究了薄膜的氢气敏感性质,原位测量了薄膜的激光拉曼光谱并分析了薄膜的氢气敏感机理。结果表明,复合薄膜V2O5(280 nm)/Pd(30nm)对氢气的敏感性质较好,对0.01%H2-N2有响应,在4%H2-N2标气中,在560 nm处透过率的相对变化值达到25%。拉曼光谱分析结果表明,Pd/V2O5薄膜在与氢气作用过程中,Pd膜主要起催化作用,氢原子扩散到V2O5层,V5+转变为V4+,导致Pd/V2O5薄膜的透过率发生变化。

• 单位
  材料复合新技术国家重点实验室; 武汉理工大学