TiN_x/SiO_2/Ag/SiO_2低辐射膜耐H_2S气体的腐蚀性能

作者：黄佳木; 郝晓培; 鞠明祥

来源：材料保护, 2011, (06): 31-33+3.

DOI：10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2011.06.003

• 低辐射膜
• TiNx/SiO2/Ag/SiO2
• 磁控溅射
• 耐腐蚀
• H2S气体 low-emission film
• TiNx/SiO2/Ag/SiO2
• magnetron sputtering
• corrosion resistance
• H2S gas

为了提高玻璃片上SiO2/Ag/SiO2复合膜的耐腐蚀性能,用磁控溅射法在其上制备了TiNx薄膜。采用X射线衍射(XRD)、扫描隧道显微镜(STM)研究了TiNx薄膜的结构及表面形貌;参照GB/T5137.3-2002电子产品硫化氢腐蚀的检验方法研究了TiNx/SiO2/Ag/SiO2低辐射膜耐H2S气体的腐蚀性能。结果表明:TiNx/SiO2/Ag/SiO2低辐射膜中,TiNx薄膜为较致密的非晶态结构,其厚度达到10 nm以上才能对Ag膜起到很好的保护作用;低辐射膜腐蚀前后的平均透过率变化不到5%;低辐射膜被H2S气体腐蚀后的产物主要为Ag2S和H2O,水分子的生成对其腐蚀有推动作用。

• 单位
  重庆大学