YbF_3沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷的影响

作者：张耀平; 许鸿; 凌宁; 张云洞

来源：强激光与粒子束, 2005, (07): 1019-1022.

• 激光薄膜
• 沉积速率
• 缺陷密度
• 损伤阈值 Laser thin film
• Deposition rate
• Defect density
• Laser damage threshold

在介绍了薄膜缺陷的特点及成因的基础上,分析了YbF3沉积速率对红外激光薄膜表面缺陷密度的影响,得出了镀制激光薄膜所需的合适速率。结果表明:薄膜表面缺陷主要以节瘤缺陷与陷穴缺陷为主,其缺陷密度随YbF3沉积速率的减小基本表现为减小的趋势,当ZnS沉积速率约为0.2nm/s,YbF3沉积速率约为0.4nm/s时,可得到比较满意的激光薄膜,薄膜表面缺陷密度仅为0.000675。

• 单位
  中国科学院研究生院; 中国科学院光电技术研究所