采用梯形棱镜波前分割的激光干涉光刻技术

作者：冯伯儒; 张锦; 刘娟

来源：应用激光, 2005, (05): 39-40+52.

• 激光干涉光刻
• 波前分割
• 光刻技术
• 微细加工 Laser interferometric lithography
• wavefront division
• photolithography
• microfabrication

光学光刻技术在微细加工和集成电路(IC)制造中一直是主流技术。随着IC集成度的提高,要求越来越高的光刻分辨力,但光学光刻的分辨极限受光刻物镜数值孔径(NA)和曝光波长(λ)的限制。激光干涉光刻技术具有高分辨、大视场、无畸变、长焦深等特点,其分辨极限为λ/4,在微细加工、大屏幕显示器、微电子和光电子器件、亚波长光栅、光子晶体和纳米图形制造等领域有广阔的应用前景。阐述了激光干涉光刻技术的基本原理。提出了一种采用梯形棱镜作为波前分割元件的激光干涉光刻方法。建立了相应的曝光系统,该系统可用于双光束、三光束、四光束和五光束等多光束和多曝光干涉光刻。给出了具有点尺寸约220nm的周期图形阵列的实验结果。

• 单位
  中国科学院光电技术研究所; 微细加工光学技术国家重点实验室