摘要

光刻机照明系统采用部分相干照明,通过对照明系统的光瞳调制改变照明模式和相干因子,能够进一步提高曝光分辨率和焦深。针对空间光阑滤波、变焦镜、轴锥镜、DOE衍射元件以及数字微镜阵列等多种光瞳调制方案开展研究,分析了它们的技术特点和应用场景,论述了光瞳调制的重要意义。

  • 单位
    中国电子科技集团公司第四十五研究所