石英基片上(110)取向PLZT薄膜及其光学性能研究

作者：张继华; 莫尚军; 闻伟; 陈宏伟; 杨传仁

来源：功能材料与器件学报, 2011, (03): 242-247.

• 铁电
• 锆钛酸铅镧(PLZT)
• 薄膜
• 光学性能 Ferroelectric
• Lead lanthanum zirconate titanate(PLZT)
• Films
• Optical Properties

在低成本的石英玻璃衬底上制备高性能电光薄膜非常有吸引力。本文采用溅射方法,并结合Pb3O4气氛退火工艺,在ITO/石英玻璃衬底上制备锆钛酸铅镧(PLZT 8/65/35)薄膜。结果表明:在优化工艺条件下,薄膜为(110)方向择优生长,表面均方根粗糙度为3.1nm,可见光范围内透过率为81.3%,消光系数为0.003。这种表面光滑和高光学性能的PLZT薄膜在集成光学和光电子器件具有重要的应用潜力。

• 单位
  电子薄膜与集成器件国家重点实验室; 电子科技大学