评价任意面型微光学元件制作误差的方法

作者：高洪涛; 杜春雷; 张雨东

来源：微细加工技术, 2007, (04): 27-29.

• 微光学元件
• 制作误差
• 泽尼克多项式
• 任意表面 micro-optical element
• fabrication error
• Zernike polynomials
• arbitrary profile

提出一种可用于评价任意面型微光学元件制作误差的方法。利用泽尼克多项式描述微光学元件面型,针对元件检测过程中的旋转对准偏差,给出泽尼克系数随旋转角度的变化关系;以设计面型和实测面型之间的均方根偏差(RMS)为加工误差的评价指标,根据其相对于旋转角度的依赖曲线,最小的RMS即是加工误差。数值模拟结果表明,该方法可以将旋转对准偏差矫正,从而有效地评价了制作误差。该方法可应用于任意面型微光学元件的研制。

• 单位
  微细加工光学技术国家重点实验室; 中国科学院光电技术研究所; 中国科学院研究生院