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摘要
凭借优异的材料与光学特性，第三代半导体——碳化硅材料在集成光子学领域发展迅速并获得广泛关注。当前碳化硅材料正逐渐发展为可与CMOS工艺兼容的优异光子学材料平台。受益于高非线性系数和低光学损耗特性，碳化硅材料已广泛应用于多种片上非线性光学效应的实现，如高效二次谐波、快速电光调制和孤子光学频率梳产生等。同时与金刚石类似，碳化硅材料具有性能优异的二能级固体自旋色心，基于碳化硅色心与谐振腔的腔量子电动力学效应在近年来也得到广泛研究。综合近几年来国内外在碳化硅光子学上的研究现状，介绍碳化硅在集成非线性光学和集成量子光学领域中的最新研究进展，并就碳化硅光子学的未来发展趋势进行展望和讨论。
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