20MnCr5HHA材料残余奥氏体含量控制的研究

作者:杨扬; 车永平; 李阳
来源:热处理技术与装备, 2021, 42(05): 9-13.
DOI:10.19382/j.cnki.1673-4971.2021.05.003

摘要

本文通过研究不同热处理工艺下20MnCr5HHA材料的残余奥氏体含量,分析了三种工艺条件下残余奥氏体含量的影响因素。研究结果表明:渗碳+二次加热淬火工艺可有效降低零件表面的残余奥氏体含量,最终将20MnCr5HHA材料渗碳热处理后的残余奥氏体含量控制在15%以内,满足了国外客户的需求。