基于反射光谱的单层抗反射膜的非在位膜厚精确控制

作者：徐建明; 熊兵; 袁贺; 孙长征; 罗毅

来源：光电子.激光, 2010, 21(10): 1507-1510.

DOI：10.16136/j.joel.2010.10.019

• 膜厚控制
• 抗反射(AR)镀膜
• 反射光谱
• 等离子体增强化学气相淀积(PECVD)

提出一种基于反射光谱分析的非在位膜厚控制技术,首先利用椭圆偏振光谱仪确定波长300～1 700 nm范围内的薄膜折射率,由此确定对应于特定波长(如1 550 nm)的最佳抗反射(AR)镀膜沉积条件。然后计算最佳AR镀膜厚度所对应的反射谱,得到相应的CIE标准色谱坐标。通过对比实测镀膜颜色和计算得到的最佳颜色,可以实现小尺寸器件端面上AR镀膜厚度的优化控制。利用这一方法,由等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制备的SiNx单层AR镀膜,获得了4.4×10-4的反射率。

• 单位
  清华信息科学与技术国家实验室; 集成光电子学国家重点实验室; 清华大学