锐钛矿TiO_2薄膜的制备及其紫外光电导性能研究

作者：张利伟; 姚宁; 鲁占灵; 杨仕娥; 樊志琴; 张兵临

来源：半导体光电, 2005, (01): 40-43.

DOI：10.16818/j.issn1001-5868.2005.01.011

• 直流反应磁控溅射
• 锐钛矿TiO2薄膜
• 光响应 DC reactive magnetron sputtering
• anatase TiO_2 thin film
• photoresponse

采用直流反应磁控溅射的方法, 溅射高纯钛靶在 ITO石英衬底上制备了 TiO2 薄膜。用Raman光谱、AFM和紫外 可见光分光光度计分别测试了 TiO2薄膜的结构、表面形貌和紫外 可见光吸收谱,研究了工艺因素中溅射气压、氧氩比和退火温度对薄膜结构的影响。采用C(胶)/TiO2/ITO三层结构研究了锐钛矿TiO2薄膜的紫外光响应。实验结果表明:较低的溅射气压、合适的氧氩比和较高的退火温度有利于锐钛矿 TiO2 薄膜的结晶。在 2 V 的偏压下,锐钛矿TiO2薄膜的紫外光响应上升弛豫时间约为3 s,稳定光电流可达到2.1 mA,对紫外光的灵敏性和稳定的光响应表明TiO 薄膜有可能成为一种新的紫外...

• 单位
  郑州大学