经颅磁刺激联合经颅直流电刺激在大脑皮层电场分布的研究

作者：王贺; 王欣; 靳静娜; 李颖; 刘志朋; 殷涛^*

来源：生物医学工程研究, 2019, 38(01): 11-15.

DOI：10.19529/j.cnki.1672-6278.2019.01.03

• 经颅磁刺激
• 经颅直流电刺激
• 电场分布
• 仿真
• SimNibs

经颅磁刺激(transcranial magnetic stimulation,TMS)和经颅直流电刺激(transcranial direct current stimulation,tDCS)均可用于调控大脑皮层的兴奋性。此前两种技术很少被用于同时刺激大脑皮层的两个不同区域,近期研究表明,同时刺激大脑皮层两个相互连接的区域可以提高刺激效果。为了确保应用安全性并给出实验指导,本研究使用SimNibs进行仿真计算,研究同时应用TMS和tDCS时在大脑皮层产生的两个电场之间的相互作用。结果表明,同时应用TMS和tDCS是安全的,且TMS和tDCS之间的相互作用受线圈和电极之间相对位置的影响。

• 单位
  中国医学科学院北京协和医学院