CF4及其N2混合物在普冷温区下绝缘机理分析(英文)

作者：李卫国^*; 侯孟希; 袁创业; 程宇頔; 屠幼萍

来源：Journal of Central South University (English Edition), 2018, 25(07): 1701-1707.

• CF4
• N2
• 分子团
• 附着效应
• 击穿机理
• 普冷温区

普冷温区环境下气体绝缘机理依然不够明朗。本文在温度–15325°C,气压502000 Pa的范围内对CF4、N2、20%CF4/N2以及50%CF4/N2混合气体进行了绝缘击穿试验。试验结果表明:气体临界击穿电压出现位置随着温度的降低向低气压偏移;N-2临界击穿电压随着温度的变化呈现明显的波动性,随着气体中CF4含量的增高,混合气体临界击穿电压随着温度变化的波动性降低,纯CF4气体临界击穿电压随着温度的降低呈单调下降趋势。这一现象与分子电负性强弱、附着效应、分子团以及二代电子崩的形成有关。