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摘要
光刻物镜是光刻机核心部件，其波像差大小决定着光刻机的分辨率和套刻精度。随着光刻机性能的逐步提升，光刻物镜波像差要求已经降低到0.5 nm (RMS)以下，这对波像差的检测是一个极大的挑战。现行的光刻物镜波像差检测方法 (如哈特曼法，剪切干涉法和点衍射法等)的检测精度往往受限于其系统误差，而绝对检测技术是一种能够将系统误差分离出来的技术，最终突破精度极限。本文回顾了光刻物镜系统波像差检测方法和波前绝对检测技术，详细梳理了绝对检测技术在不同波像差检测方法中的应用和研究进展，重点总结了绝对检测技术在不同波像差检测方法中的技术难点，同时结合这些难点，展望了光刻物镜波像差绝对检测技术的未来发展趋势。
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